拓荊科技(688072)4月8日午間公告，公司擬與沈陽市人民政府國有資產(chǎn)監(jiān)督管理委員會（簡稱“沈陽市國資委”）及其他產(chǎn)業(yè)合作方共同發(fā)起設(shè)立遼寧省集成電路裝備及零部件創(chuàng)新中心（簡稱“創(chuàng)新中心”）。

拓荊科技是國內(nèi)量產(chǎn)型PECVD（等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）、ALD（原子層沉積）、SACVD（次常壓化學(xué)氣相沉積）、HDPCVD（高密度等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）、超高深寬比溝槽填充CVD等薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備的領(lǐng)軍企業(yè)。拓荊科技目前已經(jīng)形成半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備和混合鍵合設(shè)備兩個產(chǎn)品系列。拓荊科技聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。

近年來，拓荊科技始終持續(xù)保持高強(qiáng)度的研發(fā)投入，堅持自主創(chuàng)新，在推進(jìn)新產(chǎn)品研發(fā)、產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化和各產(chǎn)品系列迭代升級的過程中取得了重要成果，包括Flowable CVD設(shè)備、PECVD Bianca工藝設(shè)備、PE-ALD SiN工藝設(shè)備、HDPCVD FSG、HDPCVDSTI工藝設(shè)備、鍵合套準(zhǔn)精度量測設(shè)備等一系列新產(chǎn)品及新工藝經(jīng)下游用戶驗證導(dǎo)入，實現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化。同時，新型設(shè)備平臺PF-300M、PF-300T Plus及新型反應(yīng)腔Supra-D ACHM、ONO Stack等工藝設(shè)備持續(xù)獲得客戶重復(fù)訂單，實現(xiàn)大批量出貨，進(jìn)一步提升了公司產(chǎn)品性能及核心競爭力。

2021年、2022年、2023年、2024年前三季度，拓荊科技研發(fā)投入分別為2.88億元、3.79億元、5.76億元和4.81億元。

對于本次攜手沈陽市國資委等共同發(fā)起設(shè)立創(chuàng)新中心事宜，拓荊科技表示，本次創(chuàng)新中心的設(shè)立，將充分整合多方優(yōu)勢資源共同發(fā)揮積極作用。一方面，沈陽市國資委發(fā)揮統(tǒng)籌協(xié)調(diào)作用，依托其豐富的資源，幫助創(chuàng)新中心對接投資人，為創(chuàng)新中心的發(fā)展提供資金支持并營造良好環(huán)境；另一方面，公司與其他產(chǎn)業(yè)方憑借在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的突出行業(yè)地位和深厚的技術(shù)優(yōu)勢，為創(chuàng)新中心的發(fā)展提供有力支撐。

據(jù)介紹，創(chuàng)新中心將基于這些資源和優(yōu)勢的整合，積極響應(yīng)國家戰(zhàn)略發(fā)展規(guī)劃，圍繞半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢布局前沿技術(shù)，進(jìn)一步推動整機(jī)裝備和零部件企業(yè)集聚發(fā)展，不斷增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)協(xié)同效應(yīng)和創(chuàng)新能力，助力國家集成電路產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)高質(zhì)量發(fā)展。

拓荊科技2024年年報預(yù)披露日期是4月25日。此前，公司于2月27日晚披露2024年度業(yè)績快報，2024年度公司實現(xiàn)營業(yè)收入41.03億元，同比增長51.7%；實現(xiàn)凈利潤6.88億元，同比增長3.91%；扣非凈利潤3.56億元，同比增長14.2%。

拓荊科技2024年營業(yè)收入之所以能同比增長51.7%主要系市場需求持續(xù)增長，公司新產(chǎn)品及新工藝訂單陸續(xù)實現(xiàn)收入轉(zhuǎn)化，營業(yè)收入持續(xù)高速增長。2024年度，拓荊科技出貨超過1000個設(shè)備反應(yīng)腔，創(chuàng)公司歷史年度新高。